我們都知道LED芯片制造起來十分復(fù)雜，今天小編來給大家簡單講講LED芯片的制造工藝流程，讓您看看這個(gè)核心器件是如何制作的。

從基底開始：長“晶體”的第一步

LED芯片的生命從一塊**襯底**開始。常見的襯底材料有藍(lán)寶石（Al?O?）、碳化硅（SiC）和硅（Si）。

不同襯底價(jià)格和性能差別挺大，比如藍(lán)寶石便宜但導(dǎo)熱差，SiC貴但導(dǎo)熱好。

這塊襯底其實(shí)就像蓋房子的地基，后面的外延層要長在它上面。一般芯片廠會(huì)先做清洗、拋光，確保表面干凈、平整，不然后面長出來的晶體會(huì)“歪”。

外延生長：

接下來最關(guān)鍵的一步MOCVD外延生長。

這個(gè)環(huán)節(jié)幾乎決定了芯片的亮度、波長、效率。簡單說，就是用化學(xué)氣相沉積技術(shù)，在襯底上長一層層半導(dǎo)體薄膜，比如GaN（氮化鎵）、InGaN（銦鎵氮）、AlGaN（鋁鎵氮）等。

這些材料層厚度只有幾百納米到幾微米，但要層層精確控制。外延爐里的溫度、氣體比例、壓力都得調(diào)得非常細(xì)。一點(diǎn)偏差，光的波長就會(huì)飄，產(chǎn)品良率就低。

光電結(jié)構(gòu)形成：PN結(jié)的建立

外延長好之后，會(huì)形成一個(gè)多層結(jié)構(gòu)，其中包含P型層、N型層和有源層。

有源層就是LED發(fā)光的“核心區(qū)域”，電子和空穴在這里復(fù)合發(fā)光。波長、亮度都跟這層材料的成分直接相關(guān)。

芯片制程：刻蝕、金屬化、電極制作

每個(gè)步驟都關(guān)系到芯片發(fā)光均勻度和壽命。比如金屬層厚度不均，會(huì)導(dǎo)致電流集中、局部過熱，發(fā)光點(diǎn)就容易燒壞。

切割與檢測：從晶圓到微小芯片

當(dāng)整片晶圓（通常2英寸或4英寸）做好之后，要經(jīng)過切割。

一片晶圓上可能有幾千甚至上萬個(gè)芯片。切割完之后，每顆芯片都要經(jīng)過電性和光學(xué)測試。

每一步都得精密、穩(wěn)定、干凈。LED芯片不是“拼裝”出來的，而是“長”出來的，一層層堆、一道道工藝修。